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Fortgeschrittener Siliziumvorläufer für die Halbleiterherstellung - Bdeas C8h22n2si
5,00 $
200 Stücke
Beispielpreis:US$5.00/stück.Muster anfordern
Produktprofil
Anpassung
VerfügbarCAS-Nr.
27804-64-4Formel
C8h22n2siModell Nr.
C8h22n2siEINECS
631-070-6Bescheinigung
ERREICHENUmweltschutz
JaAussehen
FlüssigkeitFarbe
WeißSpezifikation
200LWarenzeichen
ZydHerkunft
ShanghaiHauptmerkmale
ALD bei niedrigen Temperaturen: Geeignet für die atomlagenweise Abscheidung von Hafniumsilikat-Filmen bei niedrigen Temperaturen.
Hervorragende Anpassbarkeit: Ermöglicht eine ausgezeichnete Anpassung der Zusammensetzung der HfSiOx-Filme.
Vielseitige Filmbeschichtung: Wird für die atomlagenweise Abscheidung von SiO2-, HfO2- oder HfSiOx-Filmen mit Ozon verwendet.
Schnelle hydrolytische Reaktion: Reagiert schnell mit Feuchtigkeit, Wasser und protischen Lösungsmitteln.
REACH-zertifiziert: Das Produkt erfüllt die REACH-Zertifizierung und die Umweltstandards.
Unternehmensprofil
Shanghai Zhongyida New Materials Co., LtdShanghai, China
ZertifiziertUnternehmensart: HandelsunternehmenExportjahr: 2024-07-23Nächster Hafen: ShanghaiDurchschnittliche Reaktionszeit: ≤5.06hZahlungsbedingungen: LC, T/T, D/PInternationale Handelsbedingungen (Incoterms): FOB, EXW, CIF, DDP
Über unsere Fabrik & Unternehmenshintergrund
Die AnschriftShanghai, China
Stammkapital10,000,000 RMB
Durchschnittliche LieferzeitVorlaufzeit In Der Hauptsaison: 1-3 Monate, Vorlaufzeit Außerhalb Der Saison, 1-3 Monate
Unsere Produktionskapazität & technische Expertise
HauptprodukteHalbleitergas, Medizinisches Gas, Industriegas, Vorläufer, Spezialgas, Edelgas, Xenongas, Heliumgas, N2o
Unsere Branchenerfahrung & globale Geschäftsleistung
Gründungsjahr2011-03-16
HauptmärkteNordamerika, Osteuropa, Südostasien, Ostasien, Westeuropa, Mittlerer Osten, Südamerika, Afrika
Produkt Q&A
Q:Ist dieses Produkt für ALD bei niedrigen Temperaturen geeignet?
A:
Ja, es wird als flüssiger Siliziumvorläufer für die atomlagenweise Abscheidung bei niedrigen Temperaturen untersucht und bewertet.
Q:Welche Filme können mit diesem Vorläufer abgeschieden werden?
A:
Es eignet sich für die Abscheidung von SiO2-, HfO2- oder HfSiOx-Filmen, wenn es in Kombination mit Ozon verwendet wird.
Q:Wie reagiert BDEAS mit Feuchtigkeit?
A:
Es reagiert schnell mit Feuchtigkeit, Wasser und protischen Lösungsmitteln.
Q:Entspricht das Produkt den Umweltstandards?
A:
Ja, es ist REACH-zertifiziert und erfüllt die Anforderungen des Umweltschutzes.
Q:Wie lautet die CAS-Nummer für diesen Vorläufer?
A:
Die CAS-Nummer ist 27804-64-4.
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*bis:Shanghai Zhongyida New Materials Co., Ltd
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